В России создан фотолитограф с разрешением 350 нанометров
В России создан фотолитограф с разрешением 350 нанометров
Компания-резидент особой экономической зоны Технополис Москва создала первый в России фотолитограф с разрешением 350 нанометров.
В мире меньше 10 стран, способных создавать это ключевое оборудование для производства микросхем. Теперь в их числе Россия. Сделали важнейший шаг к переходу на собственное производство микроэлектроники и полной технологической независимости государства, написал мэр Москвы Сергей Собянин.
Российская установка серьезно отличается от зарубежных аналогов. Впервые в качестве излучения использовали не ртутную лампу, а твердотельный лазер мощный и энергоэффективный, с высокой долговечностью и более узким спектром.
На фотолитограф уже есть заказчик. Ведется адаптация технологических процессов к особенностям производства конечного потребителя. Также сейчас идет разработка фотолитографа с разрешением 130 нанометров. Завершить его планируется в 2026 году, добавил мэр столицы.